2大對手卡關!傳台積電首套High-NA EUV曝光機提早引進 還低於市價
【記者呂承哲/台北報導】隨著先進製程進入埃米時代,荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機成為關鍵,英特爾目前已經取得全球首套設備,台積電業務開發資深副總裁張曉強先前聲稱,雖然他很喜歡High-NA EUV曝光機,但是太貴了,他認為台積電研發團隊會持續專注在新一代EUV應用,並選擇最合適的製程節點來使用。不過,有消息傳出,台積電預計在9月底引進High-NA EUV曝光機,較先前猜測的年底更早。