南韓半導體大廠三星電子不久前傳出，員工與關係廠商向中企洩漏核心技術而蒙受天價損失，涉嫌在2016年向中國長鑫存儲（CXMT）提供18奈米DRAM製程情報的金姓與方姓嫌犯今天遭南韓檢方起訴。
據調查，金姓嫌犯2016年跳槽到長鑫存儲時，將三星電子的蒸鍍相關資料及7個核心製程技術資料流出，藉此獲得數百億韓元收入，並以稅後超過5億韓元的金額，從三星電子及相關廠商挖角20多名技術人員。
方姓嫌犯作為供應三星電子半導體設備的廠商高層，與金嫌合謀將所屬公司擁有的設計技術資料洩漏給長鑫存儲。
在這起案件曝光的半年前，一名三星電子常務也涉嫌收受中資，意圖在中國境內建設「復刻版」三星電子半導體廠，當時推算至少讓三星電子損失3000億韓元（約73億元台幣）。
韓媒Herald經濟報導，對於層出不窮的專利技術外流案件，特別是涉及國家核心技術部分，南韓大法院量刑委員會表示，將智慧財產權犯罪量刑標準修正列為優先工作之一，正在進行修正程序。
南韓警方向量刑委員會提出的建議書提到，技術外流所造成的損失嚴重性與損失規模推算困難，這類案件犯嫌通常只會得到相對輕微的處罰，認為有必要提高量刑標準；警方在2021年至2022年送檢的193件營業秘密侵害案件中，沒有任何人為此坐牢。
檢方則指出，目前量刑標準僅將技術外流類型分為在國內流出或向他國流出，建議應依嚴重性至少細分為5到6種標準。
三星電子等業者內部當然也不斷強化相關規定及措施，以保護自家商業機密，不過，業界人士指出，無論企業如何努力但仍不斷發生這類案件，顯示各種防止資訊外流、提高處罰強度等單方面措施並不足以完全防範，最終仍只能依靠員工個人道德及守法意識。（中央社）
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