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台積電將採用輝達 cuLitho 運算式微影平台 徹底改變晶片製造方式

台積電將採用輝達 cuLitho 運算式微影平台 徹底改變晶片製造方式

【記者呂承哲/台北報導】輝達(NVIDIA)宣布,全球晶圓代工龍頭台積電將採用NVIDIA cuLitho 運算式微影平台進行生產,以加速製造並突破下一代先進半導體晶片的物理極限。輝達說明,電路轉移到矽片上的運算式微影是電腦晶片製程裡的關鍵步驟,需要用到複雜的運算作業,當中涉及電磁物理、光化學、運算幾何、迭代最佳化和分散式運算,典型的晶圓代工廠會專門設立大量的資料中心來進行這項運算,這也成為新的技術節點和電腦架構上市的瓶頸,NVIDIA cuLitho 將加速運算技術用於運算式微影領域。

輝達神助攻!台積電、新思攜手 挑戰2奈米以下晶片製造

輝達神助攻!台積電、新思攜手 挑戰2奈米以下晶片製造

【記者呂承哲/綜合報導】繪圖晶片(GPU)大廠輝達(NVIDIA)從美國時間18日至21日舉行2024 GTC大會(GPU Technology Conference),輝達表示,全球晶圓代工龍頭台積電與電子設計自動化(EDA)軟體商新思科技(Synopsys)採用了輝達「cuLitho」軟體資料庫在各自的軟體、製造流程與系統整合,以加快晶片製造速度,並突破下一代的先進製程晶片的物理極限,包括2奈米以下的埃米製程晶片。

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