ASML總裁暨執行長Christophe Fouquet表示：「我們預期我們有能力將EUV技術延伸到下一個十年，並擴展我們多功能的全方位微影產品組合，這將使ASML能夠充分掌握AI人工智慧帶來的機會，從而實現顯著的營收和獲利成長。」他進一步強調，AI的發展有望成為驅動全球生產力和創新的主要動力，而這將為半導體產業創造巨大的商機。
ASML分析未來半導體市場的成長潛力，認為AI、5G、物聯網等關鍵技術的推動將進一步提升市場需求。ASML認為，AI將是推動這一成長的重要引擎，預計未來AI技術的應用將遍及各個產業，從而帶動對高效能晶片的需求增加。而這也將進一步推動半導體技術的進步，尤其是在微影技術領域，EUV技術將成為半導體製程升級的重要推動力。
ASML表示，從現在到2030年前，預期客戶在製程中使用EUV技術的曝光層次將增加。ASML持續致力於提升EUV技術的成本效益，這將幫助客戶在高階邏輯及記憶體晶片製程中，利用EUV 0.33 NA和即將推出的EUV 0.55 NA技術，從多重曝光轉向單次曝光。這項技術的進步預期將推動高階邏輯和記憶體晶片中EUV微影技術支出在2025年至2030年間達到兩位數的複合年增長率。
ASML執行副總裁暨財務長Roger Dassen在會中指出：「我們對半導體終端市場的預期成長充滿信心，尤其是未來技術節點對微影製程支出的增加。根據我們對不同市場和技術情境的評估，我們預期到2030年，ASML的年營收約為440億至600億歐元，毛利率則維持在56%至60%。」
Dassen進一步表示，ASML確認其資本配置策略，將透過增加股利和股票回購的方式，將盈餘回饋給股東，維持公司對投資人的承諾。此外，ASML將持續深化與客戶的合作，提升技術研發能力，以應對未來市場的挑戰和需求。
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