據《朝鮮日報》報導，預期Hyper-NA EUV曝光機售價可能高達7.24億美元（約為230億元新台幣），比去年底陸續推出High-NA EUV曝光機價格再度翻倍，這使得台積電等先進製程晶圓代工廠望之卻步，甚至可能讓這些公司在制定中長期目標出現變數，尤其是如今進入到埃米（A）時代，競爭更為激烈，因為這些設備價格實在過於高昂。
一名半導體業界人士指出，過去台積電相較於三星，較晚採用EUV曝光機，並透過自身所累積的經驗與技術來打造先進晶片，進而降低採購新設備的成本。
知悉三星業務的人士表示，現在採用high-NA EUV曝光機，對於考量要用以1奈米製程以下的中長期計畫，可能是個糟糕的決定。有鑒於Hyper-NA EUV曝光機的推出，可能會考慮直接跳過high-NA EUV曝光機，直接轉向Hyper-NA EUV曝光機，但前提是該設備已經提供某種程度的可靠性。
英特爾在今年4月公布晶圓代工服務（Intel Foundry Services，IFS）事業群製造部門營運情況，今年第一季虧損25億美元，2023年虧損更是高達70億美元，報導指出，英特爾為首家接收到high-NA EUV曝光機的廠商，但如今面對巨大虧損，主要就是大量採購設備所致。
ASML指出，high-NA EUV曝光機將讓英特爾可以生產2奈米以下，包括Intel 18A、Intel 14A系列製程，甚至是10埃米至7埃米製程晶片，Hyper-NA EUV曝光機成為必要設備，許多公司都會採用，因為這可以降低多重圖形（Multiple patterning）的曝光方式所產生的風險。
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