建立嚴謹流程獲國際大廠信任，明年營收挑展雙位數成長
柳紀綸透露，公司目前保管的一、兩百顆矽光子樣品，每顆價值相當於一台賓士 E-Class 車款，因此特別設立高規格櫃體保存，並建立嚴謹流程，確保樣品與數據安全，也成為汎銓贏得國際大廠信任的重要基礎。
柳紀綸強調，矽光子不是短期題材，而是確立的長期方向。今年因折舊與人力支出為成本高峰，第四季起隨新設備與專案進入驗收，業績將逐步發酵。他直言：「現在大家看到都是年增 11、12%，明年應該是雙位數，我們希望前面不是 1，對未來是樂觀看待的。」
矽光子專利領先，支援埃米世代製程
柳紀綸表示，汎銓已於台灣與日本取得矽光子光損設備專利，涵蓋設備建置與工法應用。不同於傳統僅檢測已封裝元件，汎銓聚焦於 PIC（光子積體電路）內部光波導的異常分析。公司利用自研 OFDR（光學頻域反射技術）系統快速定位漏光點與斷點，再配合 FIB 截切與 TEM 高解析分析，提供完整「光學定位—材料解析」服務。
目前廠內設有矽光子專區、材料分析專區與 AI 產品專區，主要合作對象包括台灣晶圓龍頭與美國 AI 大廠，雙方均要求分區管理，以確保機密隔離。柳紀綸直言：「兩家公司互相都不希望別人看到彼此的東西，我們乾脆分開來做。」
除了矽光子，汎銓亦啟用 SAC-TEM（球差校正穿透式電子顯微鏡）中心，具備次埃米（sub-Å）解析度，結合 EELS、EDS、3D STEM 等量測技術，能掌握原子尺度缺陷、應變與元素分布。柳紀綸指出，這是公司創業二十年來首次由客戶要求必須購置的設備，甚至為此專門興建廠房。SAC-TEM 目前已進入客戶稽核階段，預計年底正式投入營運，將成為關鍵技術戰力。
多通道光學量測方案，助攻CPO驗證
汎銓今年展會另一亮點是多通道光學量測方案，最多可支援 16 通道雷射同步輸入測試，能精準偵測波導漏光點與斷點，並追蹤光訊號經過多個元件後的光譜變化，確保光路完整性。此技術被視為業界領先能力，可大幅縮短客戶光引擎與 CPO 產品的研發迭代與量產驗證週期。
柳紀綸表示，目前矽光子與 AI 分析合計約占營收7～8%，近期因客戶組織調整稍有停滯，但趨勢不變，預期 10月後需求將重新加速。隨著 CPO 成為資料中心核心互連架構，檢測需求將快速放大，汎銓已準備好在研發與量產過程中提供完整材料與故障分析服務。
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