吳義章表示,格棋最初推進12吋碳化矽僅為展示技術,但意外捕捉到市場需求,使得早期嘗試轉化為競爭優勢。相較於氧化鎵雖具更大寬能隙,卻因散熱係數僅為矽的十分之一而受限,碳化矽具備三至四倍於矽的散熱效率,更具實用性。他坦言,第四、第五類半導體的量產至少需要十年以上,碳化矽在未來十年仍是主流。
碳化矽的應用場景正不斷拓展。吳義章指出,除功率半導體外,半絕緣型碳化矽具備95%以上透明度與理想折射率,可應用於AR眼鏡光學元件,單片鏡片即可取代傳統多層堆疊,減輕重量並提升舒適度。不過,相關技術距離成熟仍需五至十年。至於鑽石材料,雖然在散熱上是「終極材料」,但目前僅能做到1至2吋晶圓,距離12吋量產遙不可及,且成本高昂,短期難以商業化。
在12吋碳化矽的應用上,將聚焦在基板平整度與單晶排列品質,是否可無縫銜接既有製程要求。吳義章認為,包括散熱載板,由於具備高導熱係數,能有效解決AI晶片運算產生的大量熱能,取代現在的陶瓷、氧化鋁散熱載板,將以導電型碳化矽優先測試;在先進封裝方面,則是會嘗試在矽中介層導入半絕緣型碳化矽。

格棋董事長張忠傑補充,目前一廠已布建121台機台,年底前還將新增30至40台,已能滿足6吋與8吋通用需求,並持續推進至12吋。二廠則專注於研發與切磨拋光機台,現有1座長晶爐已進入試產認證,預計年底投產。張忠傑強調,與北美客戶持續就供應合規溝通,取得美國補助的廠商多不得使用中國來源,格棋能提供非中的產品,對於公司來說就是個很好的發展機會。

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