ASML總裁暨執行長Christophe Fouquet表示:「我們預期我們有能力將EUV技術延伸到下一個十年,並擴展我們多功能的全方位微影產品組合,這將使ASML能夠充分掌握AI人工智慧帶來的機會,從而實現顯著的營收和獲利成長。」他進一步強調,AI的發展有望成為驅動全球生產力和創新的主要動力,而這將為半導體產業創造巨大的商機。

ASML分析未來半導體市場的成長潛力,認為AI、5G、物聯網等關鍵技術的推動將進一步提升市場需求。ASML認為,AI將是推動這一成長的重要引擎,預計未來AI技術的應用將遍及各個產業,從而帶動對高效能晶片的需求增加。而這也將進一步推動半導體技術的進步,尤其是在微影技術領域,EUV技術將成為半導體製程升級的重要推動力。

ASML表示,從現在到2030年前,預期客戶在製程中使用EUV技術的曝光層次將增加。ASML持續致力於提升EUV技術的成本效益,這將幫助客戶在高階邏輯及記憶體晶片製程中,利用EUV 0.33 NA和即將推出的EUV 0.55 NA技術,從多重曝光轉向單次曝光。這項技術的進步預期將推動高階邏輯和記憶體晶片中EUV微影技術支出在2025年至2030年間達到兩位數的複合年增長率。

ASML執行副總裁暨財務長Roger Dassen在會中指出:「我們對半導體終端市場的預期成長充滿信心,尤其是未來技術節點對微影製程支出的增加。根據我們對不同市場和技術情境的評估,我們預期到2030年,ASML的年營收約為440億至600億歐元,毛利率則維持在56%至60%。」

Dassen進一步表示,ASML確認其資本配置策略,將透過增加股利和股票回購的方式,將盈餘回饋給股東,維持公司對投資人的承諾。此外,ASML將持續深化與客戶的合作,提升技術研發能力,以應對未來市場的挑戰和需求。


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