環球網24日報導，荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾（ASML）執行長達森（Roger Dassen）當地時間24日發布2023年第四季及全年財報，指荷蘭及美國最新頒布的出口管制法規已經生效，預期今年艾司摩爾不會獲得向中國運送NXT:2000i及以上的浸潤式深紫外光曝光機（DUV）的出口許可。
達森又指，個別中國先進晶片製造晶圓廠將無法獲得發運NXT:1970i及NXT:1980i浸潤式深紫外光曝光機的許可證。
路透社25日報導，這是艾司摩爾首次公開證實，美國的規定直接限制該公司對中國出口規格較低的NXT:1970i曝光機，而這產品並不在荷蘭要求獲得出口許可的範圍內。
報導引述達森表示，仍然預期中國對較舊規格曝光機的需求將保持「非常非常穩定」。
報導引述艾司摩爾執行長韋尼克（Peter Wennink）表示，中國會持續對較舊規格的半導體設備有需求，因為中國很多日常設備，及大型太陽能及電動車產業，也需要較舊規格的晶片，「他們完任依賴進口」。
自從美國限制對中國半導體產品及設備出口，艾司摩爾從2019年起已限制向中國出售最先進的極紫外光曝光機（EUV）。
據中國媒體財新報導，NXT:1970i首次出貨的時間是2013年，是2016年首次出貨的NXT:1980i的上一代產品。NXT:1970i不能出口到中國，意味著部分中國晶圓廠只能從艾司摩爾購得2013年首次出貨的NXT:1965Ci曝光機，落後目前最先進的NXT:2100i五代。（中央社）
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