根據韓國新聞媒體Money Today援引的內部消息稱，三星的半導體代工部門正在快速推進其 2奈米生產計畫，三星正整合優勢資源，加速 2奈米技術的研發。一些業內人士甚至猜測，三星可能會跳過3奈米生產，直接跨入2奈米製造工藝。
IT之家今年 6 月報導，三星官方公布最新工藝技術路線圖，該公司計畫在2025年推出2奈米級的SF2工藝，2027年推出1.4奈米級的SF1.4工藝，與此同時，該公司還公布SF2工藝的一些特性。
三星的SF2工藝是在今年稍早時推出第3代3奈米級（SF3）工藝基礎上進一步優化，與SF3相比，SF2工藝可以在相同的頻率和複雜度下提高25%的功耗效率，在相同的功耗和複雜度下提高12%的性能，在相同的性能和複雜度下減少5%的面積。
為了讓SF2製程更具有競爭力，三星還為該工藝提供一系列先進的IP組合，包括LPDDR5x、HBM3P、PCIe Gen6 和 112G SerDes 等。
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