ASML最新EUV設備年底交貨　每台要價近百億！體積太大需3架747分批運送

ASML表示一台高數值孔徑 EUV設備的體積和卡車相當，每台設備的售價超過 3 億美元（約96億台幣），可以滿足一線晶片製造商的需求，可以在未來10年內製造更小、更好的晶片。

Wennink 表示部分供應商無法提高組件的數量和質量，因此導致略微延誤，但整體而言這些困難都可以控制，承諾會在今年底前交付首台機器。

IT之家之前報導，對於後3奈米時代，ASML及其合作夥伴正在開發一種全新的EUV機器Twinscan EXE:5000 系列，該系列機器將具有0.55 NA（高 NA）的透鏡，分辨率達8奈米，從而在3奈米及以上節點中盡可能地避免雙重或是多重曝光。

目前極紫外光（EUV）機台可支持晶片製造商，將製程推進到3奈米左右，若要往更先進的2奈米製程甚至更小尺寸，就需要高數值孔徑極紫外光設備。

由於新一代 High NA EUV比前一代體積大30%左右，重量超過200公噸，至少需要3架波音747分批運送。