台積電作為台灣護國神山，創新的浸潤式微影技術就是產業突破關鍵，而相關技術就是2002年由林本堅發明。林本堅曾任IBM華生實驗室及生產單位22年，帶領團隊創造包括：1微米、0.75微米、0.5微米微影技術。
林本堅加入台積電後，曾任研發副總經理，致力於半導體製程科技，協助台積電建立台灣完整半導體產業體系，在2002年開始研發193奈米浸潤微影技術，讓台積電陸續成長6個技術世代，成為世界領先者。成為世界的領先者，也讓台積電在65奈米以下先進製程貢獻極大。
林本堅指出，隨著半導體製程的進展，IC愈來愈小，速度卻愈來愈快，功能也愈來愈多，關鍵之一在於微影技術的突破。半導體已從5微米一路發展至5奈米。
林本堅進一步指出，微影技術從70年代的5微米開始，經過許多光學系統、波長、鏡頭、光源、光罩、光阻化學、製程創意及量測技術的改進，使半導體科技邁進21世代，提升功能、降低成本，使摩爾定律得以不斷被實現。
林本堅舉例，半導體微影克服困難的各轉捩點，2016年半導體產業已有82%採用微影技術，而到2017年1.5億片12吋晶圓使用微影技術，創造750億美元，等於2.3兆元台幣產值。
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